运用HIPIMS高功率脉冲磁控溅射供应高质量、高附着性的致密薄膜

HIPIMS 的全称是高功率脉冲磁控溅射 (High Power Impulse Magnetron Sputtering)，这是一种先进的真空镀膜技术 (PVD, 物理气相沉积)，透过在极短时间内施加高功率脉冲，能产生高度电离的电浆体，从而制备出性能卓越的涂层。

HIPIMS 的核心特色

这种技术的关键在于它使用极短时间 (数十微秒) 的高功率脉冲，使靶材的单位功率达到极高 (kW/cm²级别)，从而产生以下特性：

• 极高的电浆密度： 比传统磁控溅射高出好几个数量级。
• 极高的靶材金属离化率： 溅射出来的粒子（原子）有很高的比例被电离成离子 (可达70%以上)。

HIPIMS 的主要用途

HIPIMS 最大的优势在于它能沉积出高质量、高附着性的致密薄膜，使其在多个领域具有重要应用：

1. 提高膜层附着力 (预处理)：
   • 在正式镀膜前，利用 HIPIMS 产生的高能金属离子电浆轰击基材表面，能有效进行蚀刻清洗处理，显著增强薄膜与基材之间的结合力。
2. 沉积致密光滑的涂层：
   • 致密光滑的涂层：高离化率使得沉积粒子能量高、迁移能力强，能有效填充基材表面的微小孔隙，形成极其致密、无孔洞的薄膜结构。同时，该技术能有效减少涂层表面的宏观颗粒，获得非常光滑的表面。这对于许多功能性薄膜（如阻隔膜、柔性电极）至关重要。
3. 微电子与内存组件：
   • 用于制备结构致密、性能稳定的薄膜，例如在次世代内存 (如 RRAM) 的研究中，利用 HIPIMS 制备二氧化钛或氮氧化钛薄膜。

昂筠为了提升溅镀薄膜的附着力，在部分卷对卷磁控溅镀机台有配备HIPIMS电源设备，将卷对卷（Roll-to-Roll）磁控溅镀技术与高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）相结合，带来显著的效益提升。它同时解决了柔性基材高质量薄膜量产中的效率、质量和成本难题。

实际应用场景

这项组合技术已在多个高端领域展现潜力：

• 柔性电子：可用于制造柔性显示屏、柔性太阳能电池、柔性传感器等产品中的高性能导电薄膜和阻隔薄膜。
• 高端包装与防护：在食品、药品包装领域，可沉积超薄且致密的阻隔膜，有效隔绝水氧，延长保质期。也适用于其他需要耐腐蚀防护的柔性材料。
• 功能性涂层：例如，在柔性基材上沉积高硬度、低摩擦系数的类钻石碳（DLC）涂层，或用于光学组件的高质量光学薄膜。

总结来说，HIPIMS 结合了传统磁控溅射的光滑度和电弧离子镀的高离化率与强结合力优点，因此被视为 PVD 镀膜技术在近几十年来的一项重大技术突破。